速度与精度
无论是半导体、光学加工、纳米材料、3C电子、超精密加工、微机电等行业，都离不开对精密元器件的表面粗糙度、几何轮廓等参数的分析。的YNM白光干涉3D形貌是一款用于精密零部件表面纳米级测量的精密仪器，可以帮助客户在所有条件和环境中安全快速测量，这款智能机器以出色的精度、速度和效率满足客户最严格的要求。
● 智能解决方案带来的多功能性
高清晰度可视化CCD相机与白光干涉测头相结合，可快速定位被测区域，宏观、微观结构一目了然。
● 高工艺可靠性
独特的隔振系统和气浮移动平台，能够有效隔离多频率振动，消除环境振动和噪声影响，保障了测量系统的高重复性。
● 测量效率最高
150mm x 150 mm气浮移动测台结合专业扫描软件，可以对大尺寸工件一键拼接测量；又可对多工件快速重复测量。
● 专业测量分析软件
MountainsMap® 软件被全球数以千计的工程师、科学家和计量学家使用，是 2D 和 3D 表面纹理分析和计量的专业工具。
白光干涉法(WLI)测量原理
白光干涉法(WLI) 是一种非接触式光学测量方法。它利用电磁波的干扰能力，在固定的时间与空间的相位关系上发生干涉效应。WLI 使用相干长度短的光源，这种光源发出的波包的时间维度在飞秒范围内。飞秒范围内的相干时间对应于微米范围内的相干长度，能实现精确的形貌测量。
| 光从光源发出到达被测物表面。 在光线到达被测物之前，一部分光线从半透镜反射到参考镜上（Mirror 1，距离d1），一部分光学穿过半透镜达到样品表面； 从样品反射回来的光束经半透镜反射到达传感器（距离d2，红色箭头）； 同时，从参考镜反射回来的光束也到达传感器（绿色箭头）； |
| 粉色波形是我们用红色箭头收集形成的数据，绿色波形是我们用绿色箭头收集形成的数据； 距离d1和d2直接影响这些波形曲线的形成，这些波形产生干涉，两个波形曲线越相似，振幅就越高。 当所有的峰值振幅相互叠加，就得到了上面的干涉振幅图。 |
YNM 应用领域
半导体制造： 用于晶圆、芯片和其他半导体元件的表面形貌测量。 |
|
精密机械加工： 对机械零部件进行三维测量，评估其加工精度和表面质量。 |
|
材料科学： 研究各种材料的表面特性，包括金属、陶瓷、聚合物等。 |
|
光学元件制造： 测量光学元件的表面形状和粗糙度，确保其光学性能符合设计要求。 |
|
生物医学工程： 用于测量和分析生物样本的表面结构，如细胞、组织等。 |
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YNM 技术规格
物镜倍率 | 2X | 4X | 8X | 10X | 20X | 50X | 100X |
视场 mm2 | 6.5x6.1 | 3.3x3.1 | 1.6x1.5 | 1.3x1.2 | 0.65x0.61 | 0.26x0.25 | 0.13x0.12 |
工作距离 mm | 43.0 | 42.9 | 12.8 | 7.4 | 4.7 | 3.4 | 2.0 |
数值孔径 | 0.1 | 0.15 | 0.25 | 0.3 | 0.4 | 0.5 | 0.7 |
横向分率 μm | 20 | 10 | 5 | 4 | 2 | 0.8 | 0.4 |
光学分率 nm | 100 (2nm) | 100 （2nm） | 100 （2nm） | 100 （1nm） | 70 （1nm） | 50 （1nm） | 30 （1nm） |
重复性nm | 100（5） | 100（1） | |||||
可测样品反射率 | 0.1% - 100% | ||||||
光源 | 高功率LED, Ic=630nm | ||||||
X、Y位移平台 | 行程：150 mm * 150 mm；分辨率：0.1μm | ||||||
Z轴扫描 | 行程：40mm；标准分辨率： 20nm；超精分辨率：1nm | ||||||
速度与精度
无论是半导体、光学加工、纳米材料、3C电子、超精密加工、微机电等行业，都离不开对精密元器件的表面粗糙度、几何轮廓等参数的分析。的YNM白光干涉3D形貌是一款用于精密零部件表面纳米级测量的精密仪器，可以帮助客户在所有条件和环境中安全快速测量，这款智能机器以出色的精度、速度和效率满足客户最严格的要求。
● 智能解决方案带来的多功能性
高清晰度可视化CCD相机与白光干涉测头相结合，可快速定位被测区域，宏观、微观结构一目了然。
● 高工艺可靠性
独特的隔振系统和气浮移动平台，能够有效隔离多频率振动，消除环境振动和噪声影响，保障了测量系统的高重复性。
● 测量效率最高
150mm x 150 mm气浮移动测台结合专业扫描软件，可以对大尺寸工件一键拼接测量；又可对多工件快速重复测量。
● 专业测量分析软件
MountainsMap® 软件被全球数以千计的工程师、科学家和计量学家使用，是 2D 和 3D 表面纹理分析和计量的专业工具。
白光干涉法(WLI)测量原理
白光干涉法(WLI) 是一种非接触式光学测量方法。它利用电磁波的干扰能力，在固定的时间与空间的相位关系上发生干涉效应。WLI 使用相干长度短的光源，这种光源发出的波包的时间维度在飞秒范围内。飞秒范围内的相干时间对应于微米范围内的相干长度，能实现精确的形貌测量。
| 光从光源发出到达被测物表面。 在光线到达被测物之前，一部分光线从半透镜反射到参考镜上（Mirror 1，距离d1），一部分光学穿过半透镜达到样品表面； 从样品反射回来的光束经半透镜反射到达传感器（距离d2，红色箭头）； 同时，从参考镜反射回来的光束也到达传感器（绿色箭头）； |
| 粉色波形是我们用红色箭头收集形成的数据，绿色波形是我们用绿色箭头收集形成的数据； 距离d1和d2直接影响这些波形曲线的形成，这些波形产生干涉，两个波形曲线越相似，振幅就越高。 当所有的峰值振幅相互叠加，就得到了上面的干涉振幅图。 |
YNM 应用领域
半导体制造： 用于晶圆、芯片和其他半导体元件的表面形貌测量。 |
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精密机械加工： 对机械零部件进行三维测量，评估其加工精度和表面质量。 |
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材料科学： 研究各种材料的表面特性，包括金属、陶瓷、聚合物等。 |
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光学元件制造： 测量光学元件的表面形状和粗糙度，确保其光学性能符合设计要求。 |
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生物医学工程： 用于测量和分析生物样本的表面结构，如细胞、组织等。 |
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YNM 技术规格
物镜倍率 | 2X | 4X | 8X | 10X | 20X | 50X | 100X |
视场 mm2 | 6.5x6.1 | 3.3x3.1 | 1.6x1.5 | 1.3x1.2 | 0.65x0.61 | 0.26x0.25 | 0.13x0.12 |
工作距离 mm | 43.0 | 42.9 | 12.8 | 7.4 | 4.7 | 3.4 | 2.0 |
数值孔径 | 0.1 | 0.15 | 0.25 | 0.3 | 0.4 | 0.5 | 0.7 |
横向分率 μm | 20 | 10 | 5 | 4 | 2 | 0.8 | 0.4 |
光学分率 nm | 100 (2nm) | 100 （2nm） | 100 （2nm） | 100 （1nm） | 70 （1nm） | 50 （1nm） | 30 （1nm） |
重复性nm | 100（5） | 100（1） | |||||
可测样品反射率 | 0.1% - 100% | ||||||
光源 | 高功率LED, Ic=630nm | ||||||
X、Y位移平台 | 行程：150 mm * 150 mm；分辨率：0.1μm | ||||||
Z轴扫描 | 行程：40mm；标准分辨率： 20nm；超精分辨率：1nm | ||||||
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